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              玻璃窯爐煙氣脫硝工程

              發(fā)布時(shí)間:2019-04-24 瀏覽量:1639

              玻璃窯爐煙氣脫硝工程

              工藝流程簡(jiǎn)介

                  玻璃窯爐出口煙氣約600,高壓電除塵器內(nèi)煙氣溫度在350左右,而SCR技術(shù)的***佳溫度范圍為350—400,催化劑有***佳活性,脫硝效率***高。所以玻璃窯爐煙氣需部分進(jìn)余熱鍋爐進(jìn)行降溫后與未進(jìn)入余熱鍋爐的煙氣混合,保證煙氣溫度在脫硝的***佳溫度范圍內(nèi)。

              (1)電除塵器

              混合煙氣首先進(jìn)入電除塵器進(jìn)行除塵,電除塵包括除塵器本體和供電電源兩部分,當(dāng)煙氣通過(guò)電除塵器主體結(jié)構(gòu)前的煙道時(shí),使其煙塵帶正電荷,然后煙氣進(jìn)入設(shè)置有多層陰極板的電除塵器通道。由于帶正電荷煙塵與陰極電板的相互吸附作用,使煙氣中的顆粒煙塵吸附在陰極上,定時(shí)打擊陰極板,使具有一定厚度的煙塵在自重和振動(dòng)的雙重作用下跌落在電除塵器結(jié)構(gòu)下方的灰斗中,從而達(dá)到清除煙氣中的煙塵的目的。

              (2)SCR系統(tǒng)煙氣脫硝過(guò)程

              外購(gòu)氨水(濃度大約20%)由氨水槽罐車運(yùn)輸進(jìn)廠,利用卸氨泵將氨水槽罐車的氨水直接泵送到氨水儲(chǔ)罐,由氨水輸送泵將氨水送入氨水噴嘴。氨水經(jīng)霧化后噴入煙道氣經(jīng)靜態(tài)混合器與煙氣混合均勻,再送達(dá)脫硝裝置,各反應(yīng)物向催化劑的表面擴(kuò)散并進(jìn)行反應(yīng)。出氨水儲(chǔ)罐的氨水經(jīng)氨水加壓泵進(jìn)入氨水計(jì)量系統(tǒng),氨水流量根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)的NOx排放數(shù)據(jù),通過(guò)反饋系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)和控制氨水噴射量,以保證脫氮效率的持續(xù)穩(wěn)定,經(jīng)脫銷后的煙氣進(jìn)入原有的濕式脫硫器,經(jīng)過(guò)脫硫后,各污染因子即可達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。

              對(duì)于500t/d規(guī)模的玻璃生產(chǎn)線,在催化反應(yīng)器的適當(dāng)位置布置4支噴槍,經(jīng)過(guò)計(jì)量后的氨水通過(guò)氨水分配系統(tǒng)分別進(jìn)入噴槍系統(tǒng)。

              SCR脫硝技術(shù)工藝原理:

                  將氨水(質(zhì)量濃度20%25%)通過(guò)霧化噴射系統(tǒng)直接噴入催化反應(yīng)器前的適當(dāng)位置,噴入的混合氣體與煙氣充分混合,在催化劑的作用下,霧化后的氨與 NOx(NO、NO2等混合物)進(jìn)行選擇性催化還原反應(yīng),將NOx 轉(zhuǎn)化成無(wú)污染的N2。當(dāng)反應(yīng)區(qū)溫度過(guò)低時(shí),反應(yīng)效率會(huì)降低;當(dāng)反應(yīng)區(qū)溫度過(guò)高時(shí),氨會(huì)直接被氧化成N2NO,催化劑的壽命也會(huì)降低。噴氨后的主化學(xué)反應(yīng)有:

              4NO   4NH3   O2→4N2   6H2O

              2NO   4NH3   2O2→3N2   6H2O

              6NO   4NH3→5N2   6H2O

              6NO2   8NH3→7N2   12H2O

                除上述反應(yīng)之外,在條件改變時(shí),還可能發(fā)生以下副反應(yīng):

              4NH3   3O2→2N2   6H2O

              4NH3   5O2→4NO   6H2O

              2NH3→N2   3H2

              SO3   2NH3   H2O→(NH4)2SO4

              SO3   NH3   H2O→NH4HSO4

              為了提高脫NOx效率并實(shí)現(xiàn)NH3 逃逸***小化,滿足以下條件:在還原劑噴入的位置要適宜;在反應(yīng)區(qū)域維持合適的溫度范圍;且在反應(yīng)區(qū)域有足夠的停留時(shí)間。

               

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